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行业案例 | 筑牢工业废水处理防线:Micromac C_总砷在半导体含砷废水监测中的应用
发布时间:2026-09-03 来源:捷意分析 浏览:1611

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半导体晶圆制造及芯片封装过程中,含砷废的合规处理与实时监测是企业环保管理的重中之重。凭借高灵敏度、极强抗干扰能力与极低运维成本,Micromac C 水质在线分析仪(总砷)(以下简称Micromac C_总砷) 正在为全国多家知名半导体厂商提供全天候的精准监测保障



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项目背景与监测痛点


上海某头部半导体制造企业,业务涵盖高端晶圆、集成电路芯片的研发和制造。在砷化镓(GaAs)等化合物半导体材料加工、离子注入晶圆清洗工序中,会产生具有毒性强、浓度波动大特点的含砷废水。此类废水需经化学还原、沉淀过滤等严谨工艺处理后方可排放。


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严苛的排放要求与监管标准:

  • 排放限值严苛:依据国标《污水综合排放标准》(GB8978-1996)及上海市地方标准《半导体行业污染物排放标准》(DB31/374—2024),总排口总砷排放限值紧缩至0.2 mg/L。

  • 实时数据上传:监测数据需24小时实时上传至监管平台,对设备的稳定性、精准度与抗干扰能力提出了很高要求。



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解决方案与现场应用


为了严格把控废水排放合规性,该厂在废水总排口部署了 Micromac C_总砷

  • 安装方式:采用一体化落地式结构,配备简易预处理供样模块,适应现场复杂环境。

  • 运行模式:设定2小时/次的高频监测,确保第一时间发现水质异常。

  • 便捷运维:得益于设备极高的稳定性,运维人员仅需定期更换试剂与例行校准,大幅降低现场维护工作量。


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Micromac C (总砷)在上海某头部半导体制造企业应用



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产品核心技术优势


针对半导体行业复杂废水的监测难题,Micromac C_总砷展现出卓越的技术适配性

  • 超高灵敏度:检出限低至1 μg/L采用多次吹脱富集技术,即使面对微量/低浓度的含砷废水,也能实现精准测定,完全满足超低排放监测需求。

  • 强力抗干扰:无惧复杂水质独特吹脱法可有效消除水样中的浊度、色度及盐度干扰;同时完美避开 Pb(铅)、Zn(锌)、Cu(铜)、Ni(镍)、Cr(铬)、Co(钴) 等常见重金属离子的影响,确保测量数据真实可靠。

  • 智能化运行:全流程可追溯。

智能量程切换:具备超量程自动分析与自动稀释切换功能,轻松应对生产过程中废水浓度的剧烈波动。

合规数据管理:内置标样核查与数据标识功能,过程透明可追溯,全面符合HJ/T 372-2007标准规范。

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Micromac C 水质在线分析仪(总砷)



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客户价值与应用延展


目前,Micromac C_总砷已在该半导体企业上海工厂长期稳定运行。凭借精准的监测数据、极低的故障率以及便捷的运维体验,赢得了客户环保与运维部门的高度赞誉。


除了上海工厂外,Micromac C 总砷分析仪已广泛应用于北京、南京、无锡、太原等地的半导体晶圆制造大厂,覆盖预处理工段过程监测总排口合规监测等多个核心场景。


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其他应用案例实拍


Micromac C_总砷持续以硬核技术筑牢绿色防线,助力半导体企业实现高质、合规、可持续发展!


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